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PECVD系統(tǒng)產(chǎn)品簡(jiǎn)介：本設(shè)備主要針對(duì)實(shí)驗(yàn)石墨烯生長(zhǎng)和制備使用，同時(shí)該設(shè)備可以用于碳納米管的生長(zhǎng)。可制備出高質(zhì)量的透明導(dǎo)電膜,用作手機(jī)觸摸屏,平板電腦,智能穿戴,傳感器等領(lǐng)域。

前端預(yù)熱雙溫區(qū)滑軌PECVD： 1.工藝流程簡(jiǎn)單。 2.生長(zhǎng)溫度更低。 3.實(shí)現(xiàn)快速升溫和降溫。 4.輝光均勻等效，均勻生長(zhǎng)。

智能型雙溫區(qū)等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 1.高性能、免維護(hù) 2.工藝流程簡(jiǎn)單 3.溫度控制精確，操作簡(jiǎn)便

該款設(shè)備是全自動(dòng)Plasma增強(qiáng)CVD系統(tǒng)（PECVD），連續(xù)可控溫度以及Plasma強(qiáng)度等，配備真空系統(tǒng)，可以低壓條件下實(shí)現(xiàn)工藝，PECVD系統(tǒng)能使整個(gè)實(shí)驗(yàn)腔體都處于輝光產(chǎn)生區(qū)，輝光相對(duì)均勻等效，很好的解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài)，該設(shè)備爐管可360°旋轉(zhuǎn)，有助于粉料的燒結(jié)更均勻，可大角度傾斜，方便進(jìn)出料，傾斜角度在0-35°之間，所有物料經(jīng)過(guò)的管道都選用非金屬材質(zhì)，

連續(xù)進(jìn)出料等離子體增強(qiáng)回轉(zhuǎn)設(shè)備，該款設(shè)備是全自動(dòng)Plasma增強(qiáng)CVD系統(tǒng)（PECVD），爐管可360°旋轉(zhuǎn)，有助于粉料的燒結(jié)更均勻，可大角度傾斜，方便進(jìn)出料，傾斜角度在0-35°之間，所有物料經(jīng)過(guò)的管道都選用非金屬材質(zhì)。