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臺(tái)面式等離子體增強(qiáng)真空回轉(zhuǎn)爐BTF-1200C-R-PECVD，該設(shè)備是全自動(dòng)Plasma增強(qiáng)PECVD系統(tǒng)，連續(xù)可控溫度以及Plasma強(qiáng)度等，配備真空系統(tǒng)，可以低壓條件下進(jìn)行實(shí)驗(yàn)，PECVD系統(tǒng)能使整個(gè)實(shí)驗(yàn)腔體都處于輝光產(chǎn)生區(qū)，輝光相對(duì)均勻等效，有效的解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài)，該設(shè)備爐管可360°旋轉(zhuǎn)，有助于粉料的燒結(jié)更均勻。

等離子體增強(qiáng)回轉(zhuǎn)PECVD系統(tǒng) 主要特點(diǎn) 我司研制的回轉(zhuǎn)PECVD系統(tǒng)能使整個(gè)實(shí)驗(yàn)腔體都處于輝光產(chǎn)生區(qū)，輝光均勻等效，這種技術(shù)很好的解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài)，這樣離子化的范圍和強(qiáng)度是傳統(tǒng)PECVD的百倍，并解決了物料不均勻堆積現(xiàn)象。