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臺(tái)面式等離子體增強(qiáng)真空回轉(zhuǎn)爐

簡(jiǎn)要描述:臺(tái)面式等離子體增強(qiáng)真空回轉(zhuǎn)爐BTF-1200C-R-PECVD,該設(shè)備是全自動(dòng)Plasma增強(qiáng)PECVD系統(tǒng),連續(xù)可控溫度以及Plasma強(qiáng)度等,配備真空系統(tǒng),可以低壓條件下進(jìn)行實(shí)驗(yàn),PECVD系統(tǒng)能使整個(gè)實(shí)驗(yàn)腔體都處于輝光產(chǎn)生區(qū),輝光相對(duì)均勻等效,有效的解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài),該設(shè)備爐管可360°旋轉(zhuǎn),有助于粉料的燒結(jié)更均勻。

  • 產(chǎn)品型號(hào):BTF-1200C-R-PECVD
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2024-08-23
  • 訪  問(wèn)  量:153

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品牌貝意克價(jià)格區(qū)間面議
儀器種類回轉(zhuǎn)爐產(chǎn)地類別國(guó)產(chǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域能源,電子,汽車,綜合

臺(tái)面式等離子體增強(qiáng)真空回轉(zhuǎn)爐

1)加熱系統(tǒng)2)Plasma系統(tǒng)3)爐管轉(zhuǎn)動(dòng)系統(tǒng)4)觸屏操作系統(tǒng)5)進(jìn)出氣法蘭組件6)爐管 7)真空系統(tǒng)。

(1)加熱系統(tǒng):

該加熱系統(tǒng)的加熱腔體采用氧化鋁纖維制品,其極低的熱導(dǎo)率和比熱容,保證了爐膛的快速升溫和低蓄熱,該系統(tǒng)設(shè)置有超溫、欠溫、斷偶報(bào)警保護(hù)功能,大大降低了對(duì)操作人員經(jīng)驗(yàn)的要求。溫區(qū)為單溫區(qū),溫區(qū)長(zhǎng)440mm,異形石英管規(guī)格采用Φ60*Φ100*1200。

(2)Plasma系統(tǒng):

本系統(tǒng)借助于輝光放電產(chǎn)生等離子體,輝光放電等離子體中,電子密度高,通過(guò)反應(yīng)氣態(tài)放電,有效利用了非平衡等離子體的反應(yīng)特征,從根本上改變了反應(yīng)體系的能量供給方式。

(3)爐管轉(zhuǎn)動(dòng)系統(tǒng):

爐管轉(zhuǎn)動(dòng)系統(tǒng)可以讓爐管360°勻速轉(zhuǎn)動(dòng),轉(zhuǎn)速在0.25-25r/min連續(xù)可調(diào)。

(4)觸屏操作系統(tǒng):該系統(tǒng)可以讓設(shè)備在自動(dòng)模式下高度自動(dòng)化運(yùn)行,所有參數(shù)程序設(shè)定好后自動(dòng)運(yùn)行:可實(shí)現(xiàn)按照設(shè)定程序連續(xù)工作,可設(shè)置多工作段不同參數(shù),并可進(jìn)行某工作段循環(huán)工作及某程序循環(huán)工作。

(5) 進(jìn)出氣法蘭組件:設(shè)備法蘭左端為進(jìn)氣端,一側(cè)配有球閥控制的進(jìn)氣口,另一側(cè)預(yù)留KF25接口,上部配有壓力表,左側(cè)端面為KF50接口。右端為出氣端,一側(cè)由球閥控制的出氣口,另一側(cè)為KF25抽口,上部配有真空計(jì),右側(cè)端面為KF50接口。

(6)爐管:爐管為異形石英管,通過(guò)左右兩端磁流體密封法蘭實(shí)現(xiàn)真空下的回轉(zhuǎn),

(7)真空系統(tǒng):由一個(gè)電容真空計(jì)和一臺(tái)DRV16機(jī)械泵組成,抽口端由KF25手動(dòng)擋板閥控制,并配有粉塵過(guò)濾器。


臺(tái)面式等離子體增強(qiáng)真空回轉(zhuǎn)爐

額定功率

4KW

額定電壓

AC 220V

最高溫度

1200℃

使用溫度

≤1100℃

爐管尺寸

異型管 Φ60*100*1200mm一根

爐管旋轉(zhuǎn)速率

3~13r/min

熱電偶類型

K型熱電偶

控溫精度

±1℃

控溫方式

模糊PID控制和自動(dòng)整定調(diào)節(jié),智能化30段可編程控制,具有超溫和斷偶報(bào)警功能

射頻功率范圍

0-500W

加熱長(zhǎng)度

440mm

恒溫長(zhǎng)度

200mm

加熱元件

電阻絲


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