CVD系統(tǒng)-安徽貝意克設(shè)備技術(shù)有限公司

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CVD系統(tǒng)

回轉(zhuǎn)CVD設(shè)備負(fù)極材料燒結(jié)設(shè)備二維材料制備碳納米管

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BTF-1200C-II-R-CVD自動(dòng)進(jìn)出料回轉(zhuǎn)CVD系統(tǒng)

更新時(shí)間：2024-08-06

型號(hào)：BTF-1200C-II-R-CVD

瀏覽量：1789

自動(dòng)進(jìn)出料回轉(zhuǎn)CVD系統(tǒng)產(chǎn)品簡(jiǎn)介： 1.該設(shè)備爐管可360度旋轉(zhuǎn)，管內(nèi)壁有石英擋片幫助粉料翻轉(zhuǎn)有助于燒結(jié)得更均勻； 2.可左右大角度傾斜，方便出放料，傾斜角度在0~35°之間。 3、廣泛應(yīng)用于電池正負(fù)極材料，無(wú)強(qiáng)酸堿性粉體材料，顆粒狀物料。 4、可在真空下或氣氛保護(hù)下進(jìn)行燒制。
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BTF-1200C-III-150-CVD間歇式CVD回轉(zhuǎn)爐

更新時(shí)間：2024-09-04

型號(hào)：BTF-1200C-III-150-CVD

瀏覽量：120

間歇式CVD回轉(zhuǎn)爐由控制柜和加熱爐組成，控制柜為密封殼體，內(nèi)置電路板和氣路板，外部可通過(guò)觸摸屏及手閥操控電路和氣路；加熱爐由一臺(tái)三溫區(qū)開啟式管式爐及相應(yīng)配件組成，爐管可回轉(zhuǎn)。
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BST-1200C-CVD立式流化床-多壁碳納米管制備設(shè)備

更新時(shí)間：2024-08-29

型號(hào)：BST-1200C-CVD

瀏覽量：139

1、氣體先經(jīng)過(guò)氣體預(yù)熱爐預(yù)熱后進(jìn)入流化床反應(yīng)腔體，可以降低大量冷氣流進(jìn)入腔體對(duì)工藝的影響。 2、反應(yīng)器出口配有攪動(dòng)裝置，防止碳管在反應(yīng)器出口堵塞。 3、進(jìn)液口附近配有測(cè)溫?zé)犭娕迹?可以控制進(jìn)液口的溫度。 4、進(jìn)液口活動(dòng)式，可以根據(jù)工藝需要的溫度調(diào)整上下位置。 5、收集器排氣口安裝可轉(zhuǎn)動(dòng)式濾網(wǎng)，方式濾網(wǎng)堵塞。
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BTF-1600C-CVD-D21600℃多源高溫CVD系統(tǒng)

更新時(shí)間：2024-08-23

型號(hào)：BTF-1600C-CVD-D2

瀏覽量：126

這是一臺(tái)1600℃多源高溫CVD系統(tǒng)。電氣控制采用內(nèi)置控溫儀表，其控溫精準(zhǔn)且操作直觀簡(jiǎn)便。爐管為剛玉管，左端法蘭為進(jìn)氣端，配有壓力保護(hù)組件和2個(gè)進(jìn)氣口，其中一路由截止閥控制，為進(jìn)混氣；另外一路為環(huán)硼氮烷，通過(guò)電磁閥+單向閥控制；右端法蘭為出氣端，配有蝶閥控制的壓力控制系統(tǒng)和真空泵組成，法蘭前端配有攪拌機(jī)構(gòu)，對(duì)于尾端沉積物料具有清理作用，同時(shí)配有過(guò)濾組件。
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BTF-1500C-CVD小型浮動(dòng)催化系統(tǒng)CVD系統(tǒng)

更新時(shí)間：2024-08-22

型號(hào)：BTF-1500C-CVD

瀏覽量：126

BTF-1500C-CVD是小型浮動(dòng)催化系統(tǒng)CVD系統(tǒng)，配備真空系統(tǒng)，可以低壓條件下進(jìn)行實(shí)驗(yàn)；設(shè)備配有雙向推拉注射泵、氧分析儀、防爆控制柜、收集罐、密封腔室等組件。
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BTF-1400C-II-OP-R多功能回轉(zhuǎn)CVD系統(tǒng)

更新時(shí)間：2024-08-21

型號(hào)：BTF-1400C-II-OP-R

瀏覽量：174

多功能回轉(zhuǎn)CVD系統(tǒng)由加熱系統(tǒng)、爐管轉(zhuǎn)動(dòng)系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)，工控及操作系統(tǒng)等結(jié)構(gòu)組成。
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BTF-1200C-SL-A等離子增加化學(xué)氣相沉積CVD系統(tǒng)

更新時(shí)間：2024-08-15

型號(hào)：BTF-1200C-SL-A

瀏覽量：131

BTF-1200C-SL-A是一款新型智能型滑軌等離子增加化學(xué)氣相沉積CVD系統(tǒng)。本設(shè)備集真空系統(tǒng)、供氣流量系統(tǒng)、自動(dòng)推進(jìn)、加熱于一體，并將所有控制集成于觸屏操控界面之中，使設(shè)備更加智能化，便于使用者操作。溫度范圍寬：100-1200度可調(diào)，加熱區(qū)域長(zhǎng)度：1650mm。適用范圍寬：金屬薄膜，陶瓷薄膜等，復(fù)合薄膜，連續(xù)生長(zhǎng)各種薄膜等。
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BTF-1200C-III-R-CVD-150回轉(zhuǎn)CVD系統(tǒng)

更新時(shí)間：2024-08-01

型號(hào)：BTF-1200C-III-R-CVD-150

瀏覽量：571

該設(shè)備是定制回轉(zhuǎn)CVD系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)一次加3L粉料進(jìn)行生產(chǎn)；從結(jié)構(gòu)上共分成主體設(shè)備、上料機(jī)構(gòu)、收料機(jī)構(gòu)三大模塊。
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